利用兆声波技术的清洗、抛光、显影、刻蚀等半导体湿法处理
超声波清洗技术是最为常用的工业清洗技术之一，传统的超声波清洗技术是通过20kHz-100kHz的超声波在液体中产生的空化作用，对物体表面的污渍进行去除而达到清洗的目的。但超声波空化作用过强会对物体表面造成一定损伤，如在半导体器件、光学精密件等精密元器件的清洗中，由于器件表面有微结构，传统高频超声波清洗会对其表面造成损坏。另外，超声频率越高，清洗的杂质颗粒粒径越小，最高频率100kHz的传统超声波清洗很难清洗1微米以下的杂质颗粒。
图1：喷淋式兆声清洗示意图
频率高于400kHz的超声波在液体中传播时，能使被清洗件表面附近形成速度梯度很大且极薄的声学边界层，其杂质粒子受到液体兆赫频的震荡作用从器件表面脱落，能够清洗掉元器件表面微米、亚微米级的杂质颗粒，实现超精密清洗过程。此外，高频超声波清洗过程由于极低的空化效应，对被清洗件表面不会产生损伤，能够有效解决精密元器件清洗后造成的腐蚀或损伤破坏等现象。所以能发射兆赫兹级别的兆声装置被广泛应用于半导体制造领域，并且除了有清洗作用外，还可以在CMP化学机械抛光、显影、除胶、金属剥离、刻蚀等关键工艺中起到重要作用。
Siansonic（东方金荣）兆声清洗技术典型应用领域
晶圆清洗
CMP化学机械抛光
显影
刻蚀辅助
除胶
金属剥离
Siansonic（东方金荣）自主知识产权的兆声清洗机术突破了多年以来美国和日本在此行业的垄断，已推出了400kHz到3000kHz（3MHz），包括槽式兆声清洗、喷淋式兆声清洗和贴合式兆声清洗等的各种兆声清洗装置产品，可应对各种尺寸晶圆、MEMS等产品的湿法处理需求。
Siansonic（东方金荣）兆声清洗装置的优势
